PCB 光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景,这里的待加工基片可以是集成电路材料,显示面板材料或者印刷电路板。
光刻胶按应用领域分类,可分为 PCB 光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。市场上不同种类光刻胶的市场结构较为均衡,具体占比可以如下图所示。
目前,本土光刻胶以PCB用光刻胶为主,平板显示、半导体用光刻胶供应量占比。本土光刻胶企业生产结构可以如图所示。
本土光刻胶企业生产结构
产品供应;
产品 | 型号 | 光源 | 类型 | 分辨率 | 厚度(um) | 适用范围 |
厚胶 Thick Resist | SU-8 GM10xx系列 | g/h/i-Line | 负性 | 0.1um | 0.1-200 | 具有大的高宽比,透明度高,垂直度。 |
SU-8 Microchem | g/h/i-Line | 负性 | 0.5um | 0.5-650 | 具有大的高宽比,透明度高,垂直度。 | |
SPR220 | g/h/i-Line | 正性 | 1um | 1—30 | 可用于选择性电镀电镀,深硅刻蚀等工艺。 | |
NR26-25000P | g/h/i-Line | 负性 | 20-130 | 厚度大,相对容易去胶。 | ||
电子束光刻胶 | 型号 | 光源 | 类型 | 分辨率 | 厚度(um) | 适用范围 |
SU-8 GM1010 | 电子束 | 负性 | 100nm | 0.1-0.2 | 可用于做高宽比较大的纳米结构。 | |
HSQ | 电子束 | 负性 | 6nm | 30nm~180nm | 分辨率好的光刻胶,抗刻蚀。 | |
XR-1541-002/004/006 | ||||||
HSQ Fox-15/16 | 电子束 | 负性 | 100nm | 350nm~810nm | 分辨率好的光刻胶,抗刻蚀。 | |
PMMA(国产) | 电子束 | 正性 | \ | \ | 高分辨率,适用于电子束光刻工艺,常用的电子束光刻正胶。 | |
PMMA() | 电子束 | 正性 | \ | \ | MicroChem,分子量,适用于电子束光刻工艺,常用的电子束光刻正胶。 | |
薄胶 | 型号 | 光源 | 类型 | 分辨率 | 厚度(um) | 适用范围 |
S18xx系列 | g-Line | 正性 | 0.5um | 0.4-3.5 | 常用的薄光刻胶,分辨率高,稳定。 | |
SPR955系列 | i-Line | 正性 | 0.35um | 0.7-1.6 | 高分辨率(0.35um)光刻胶,稳定。 | |
BCI-3511 | i-Line | 正性 | 0.35um | 0.5-2 | 国产0.35um光刻胶,已经在量产单位规模使用。 | |
NRD6015 | 248nm | 负性 | 0.2um | 0.7-1.3 | 国产深紫外光刻胶,已经在量产单位规模使用。 | |
Lift off光刻胶 | 型号 | 光源 | 类型 | 分辨率 | 厚度(μm) | 适用范围 |
KXN5735-LO | g/h/i-Line | 负性 | 4μm | 2.2-5.2 | 负性光刻胶;倒角65-80°,使用普通正胶显影液显影。 | |
LOL2000/3000 | g/h/i-Line | / | NA | 130nm-300nm | 非感光性树脂,可以被显影液溶解,作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。 | |
ROL-7133 | g/h/i-Line | / | 4um | 2.8-4 | 负性光刻胶,倒角75~80°,使用普通正胶显影液。 | |
光刻胶配套试剂 | 品名 | 主要成分 | 包装 | 应用 | / | / |
正胶显影液 | TMAH 2.38% | 4LR/PC | 正胶显影液 | / | / | |
正胶稀释剂 | PGMEA | 4LR/PC | 稀释剂 | / | / | |
SU8 显影液 | PGMEA | 4L/PC | 显影SU8光刻胶 | / | / | |
RD-HMDS | HMDS | 500ml/PC | 增粘剂 | / | / | |
OMNICOAT | 见MSDS | 500ml/PC | SU-8增粘剂 | / | / |
产品名称 cas
1-丙烯酸金刚烷酯 121601-93-2
1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 16887-36-8
丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 7398-56-3
4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2
1,3-金刚烷二醇单丙烯酸酯 216581-76-9
2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 249562-06-9
2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯 303186-14-3
1,3-金刚烷二醇二丙烯酸酯 81665-82-9
2-氧代六氢-2H-3,5-亚甲基环戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯 254900-07-7
甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[ 34759-34-7
2-异丙基-2-金刚烷丙烯酸甲酯 297156-50-4
2-异丙基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 251564-67-7
gamma-丁内酯-3-基异丁烯酸酯 130224-95-2
N-异丙基甲基丙烯酰胺 13749-61-6
(9H-芴-9,9-二基)双(亚甲基)二丙烯酸酯 583036-99-1
(5-氧代四氢-呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯 156938-09-9
1-乙基环戊基甲基丙烯酸酯 266308-58-1
1-异丙基-1-环己醇甲基丙烯酸酯 811440-77-4
2-甲基-2-丙烯酸4-羟基苯基酯 31480-93-0
n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate 170216-64-5
2-(溴甲基)丙烯酸甲酯 4224-69-5
甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9
2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[ 347886-81-1
2-乙烯基萘 827-54-3
2-环己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯 186585-56-8
2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯 195000-66-9
丙烯酸甲基环戊酯 178889-49-1
丙烯酸1-乙基环戊酯 326925-69-3
2-氧代四氢-呋喃-3-基丙烯酸酯 328249-37-2
4-叔丁氧基苯乙烯 95418-58-9
4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸 69260-42-0
甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯 13695-31-3
3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene 16215-47-7
acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol 57142-64-0
1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯 157057-20-0
1-甲基环己基甲基丙烯酸酯 76392-14-8
2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯 1176273-16-7
2,5-二甲基己烷-2,5-二基双(2-甲基丙烯酸酯) 131787-39-8
1-甲基环戊基甲基丙烯酸酯 178889-45-7
1-乙基环己基甲基丙烯酸酯 274248-09-8
4-异丙基苯酚 4286-23-1
(2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate 13818-44-5
乙酸-2-乙烯基苯基酯 63600-35-1
2-(金刚烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯 325991-26-2
1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate 51920-52-6
甲基丙烯酸四氢-呋喃-2-基酯 15895-80-4
oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate 52858-59-0
6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one 1267624-16-7
3-叔丁氧基苯乙烯 105612-79-1
2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯 13732-00-8
2,3-二羟基丙烯酸丙酯 10095-20-2
2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]环氧乙烷 2653-39-6
3,5-二乙酰氧基苯乙烯 155222-48-3
2-(2,2-二氟乙烯基)双环[2.2.1]庚烷 123455-94-7
二苯基酰氯 1483-72-3
双[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]鎓与三氟甲磺酸的盐 84563-54-2
全氟丁基磺酸三苯基锍盐 144317-44-2
双(4-叔丁基苯基)氯化鎓 5421-53-4
TBPDPS-PFBS 258872-05-8
1二(4-叔丁基苯基)鎓全氟代丁烷磺酸盐 194999-85-4
(4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸 111281-12-0
N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 85342-62-7
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