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吉丰浅析UV光催化氧化除臭设备特点

阅读:259发布时间:2018-12-11

UV光催化氧化除臭设备无需恶臭气体进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在-30度~95度之间,湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作,无需添加其他物质及药剂参与处理,光催化氧化除臭设备无任何机械装置,无运动噪音,无需专人管理和日常维护,只需要作定期检查维护,维护和能耗成本低,风阻极低,设备在运行过程中,会瞬间产生大量的强刺激性UV光线,严禁人员眼睛或皮肤钟暴露在光源中,需在有安全防护措施的情况下视察。


 
UV光催化氧化除臭设备特点:
 
1、性:光催化氧化除臭设备能去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率高可达99%,远超过恶臭污染物排放标(GB14554-93)。
 
2、无需预处理:光催化氧化除臭设备恶臭气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,除臭设备工作环境温度在摄氏-30度-95度之间,湿度在30%-98%、PH指在3-11之间均可正常工作。
 
3、无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过光催化废气处理设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。
 
4、运行成本低:光催化除臭设备去任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需定期检查,本设备能耗低,(每处理废气风量为1000立方米/小时,仅耗电约0.2度电能),设备风阻极低<100pa。
 
5、光解作用:UV-C紫外线C波段(254nm)光束辐射小颗粒分子(由氨基酸组成的蛋白质分子,由脂肪酸组成的脂肪分子,由糖组成的淀粉分子,还有维生素分子、矿物质分子)将油脂分子链切断,改变油脂的分子结构挥发性有机物易受UV-C的攻击。
 
6、氧化作用:UV-C紫外线C波段(185nm)在工作时与空气中的氧气反应生成臭氧。臭氧是一种强氧化剂,对气体中的醇类、酯类、酮类、醛类、醚类、苯类等分子*氧化分解成如水蒸气和二氧化碳等无害的化合物。臭氧和OH同有机化合物反应并改变它们。

 


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