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北京雷拓晟光科技发展有限公司
UV-F总结现实办案现场中集中出现的多种疑难足迹情况——诸如被背景图案淹没的足迹,高反射表面的足迹,以及很多看得见却拍不好的足迹等,创新设计了“倾斜成像加激光矫正(IILC)"的*扫描技术,使得大部分常见疑难足迹都能得以清晰呈现。
UV-F总结现实办案现场中集中出现的多种疑难足迹情况——诸如被背景图案淹没的足迹,高反射表面的足迹,以及很多看得见却拍不好的足迹等,创新设计了“倾斜成像加激光矫正(IILC)”的*扫描技术,使得大部分常见疑难足迹都能得以清晰呈现。
主要特点:
疑难足迹的提取:高对比度、复杂花纹图案表面的足迹;高反射材质表面的足迹;只能倾斜观察可见的足迹。
高信噪比:大幅度抑制客体背景信息,提高足迹图像的信噪比。
多采集模式:根据灰尘足迹、水渍足迹、血足迹等不同情况的需求,内置了多种采集模式,用户只需根据现场情况作出简单选择。
全天候:内置式照明,无论室内、室外、白天、夜间都可工作。
无损:光学扫描成像方式,不接触痕迹,不破坏现场。
均匀性:扫描成像,避免了常规拍摄时图片因强光灯沿照明方向光照逐渐变暗而产生的照度不均匀性。
无畸变:光学扫描成像方式,避免手工拍摄时因镜头难以垂直正对痕迹表面而产生的倾斜畸变,确保图像的每一处都反映痕迹的真实形状。
自动化:不用培训,无需拍摄经验,只需软件调光配光,轻轻一按,即可采集到有鉴定价值的痕迹图像。
自带比例尺:*解决遗忘放置比例尺,或者放置的比例尺过于短小的问题,确保得到原始尺寸。
高稳定性:全封闭,无外界光干扰;无抖动,不受人为因素干扰,精确获取每一处痕迹。
降低劳动强度:无需技术员低头弯腰,挥汗如雨,四处配光,真正解放技术员的双手,节省时间去完成现场的其他任务。
集成式一体机身,专为狭长的全尺寸足迹设计,高强度,耐冲击。
技术参数:
电气参数:
USB端口控制。
10000mAh移动电源供电。
光源:
特制高亮度、小发散角条形单色光源。
均匀条形白光光源。
条形红外光源。
成像参数:
成像区域尺寸:150mm×350mm。
USB/WIFI图像数据输出。
背景信息抑制率达到40%以上(对典型客体,如复杂花纹的大理石地砖、地板革、复合木地板、防滑瓷砖等,经典图像熵算法)大800万像素图像输出(根据不同采集模式)。 逐行扫描成像方式,扫描精度为20μm
软件功能:
局部动态预览,用来判断配光是否合适。
全幅面快速扫描预览,用来判断图片是否适用。
自动/手动调节曝光量等参数,防止曝光不足或过度。
多采集模式选择,应对大多数现场情况。包括常规模式、镜像模式、水渍模式、血渍模式、弱背景模式1、弱背景模式2、具有激光辅助校正模式用来对小幅度起伏的客体上的足迹进行校正。
自动完成扫描并添加外围比例尺。
可在图像上提供自由拉伸和拖放的浮动测量尺。
可在图片上添加注释。
观察图像可在原大与全景模式间自由切换。
系统配置(UV-F3B):
UV-F3现场潜在足迹扫描系统主机一台(伸缩型)。
内嵌Win7/8系统电脑一台。
进口摄像头镜头及扫描传动装置。
内置方向定位模块用于确定足迹取向。
激光测距装置一套用于测量足迹的相对位置。
10000mAh移动电源两套。
足迹搜索装置一套。
足迹测量比对系统软件一套
便携式安全箱一个。
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