测量方法
一个无电机放电管 (1) 发出紫外光谱范围内的宽谱带。滤光盘单元 (2) 生成适合相应被测组分的紫外辐射。为此,可使用干扰滤光片校正 (IFC) 或气体滤光片校正 (GFC),或两种方法的组合。
干扰滤光片校正 (IFC)
通过转入光路中的两个不同干扰滤光片(滤光盘 2a)交替生成样片辐射和参考辐射。
气体滤光片校正 (GFC)
特别是在 NO 是被测组分时,可通过转入一个充满相关气体的气体滤光片(滤光盘 2b)来生成参考辐射。
IFC 和 GFC
将两种滤光盘进行组合,以便与其它被测组分相结合来测量 NO。
UV 分析仪模块的设计
在通过滤光单元后,光束通过透镜 (3)、分光器 (4) 和反射镜 (5) 进入样品室 (6) 和参考样品室 (7)。
样品光束通过有样品气流过的样品室 (6),光强基于被测组分的浓度而被削弱。参考光束通过反射镜 (5) 进入参考样品室 (7)。该样品室中充满一种中性气体。
检测器 (9) 相继接收样品光束和参考光束。这些测量的信号由电子部分进行放大和分析。
测量系统采取温度控制,以将外部的影响降到zui低程度。
通过对参考光束进行时间-偏移检测来同时记录测量系统的物理状态,必要时进行补偿。
将从测定的信号值来针对每个检测器生成商数,并确定这些商数的比值。通过双重生成商数,除了可补偿比例信号漂移外,还能够以方式补偿对称信号漂移。
注释
进入到分析仪的样气必须不含灰尘。必须防止样品室中发生冷凝。因此,大多数应用中有必要对气体进行改性。
当引入带易燃成分的气体,而且其浓度超过爆炸下限(LEL)时,必须根据应用采取附加措施。这种情况下请与技术部门。

SIPROCESS UV600,工作原理
通讯
通过 SIPROCESS-UV600 软件工具进行连接
与样品气接触的材料
组件 | 材料 |
---|
分析单元(样品室) | 铝或不锈钢(材料号 1.44041))、环氧树脂 |
光学窗口 | CaF2 或石英1)、环氧树脂 |
气体通路,垫片 | FKM (Viton)、PTFE、不锈钢(材料号 1.45711)) |
气体室 | 铝或不锈钢1) |
气体入口/出口 | PVDF、不锈钢(材料号 1.44011)) |
水分传感器 | 不锈钢(材料号 1.4571)、铂、环氧树脂 |
隔膜泵 | |
| PVDF |
| FKM (Viton)、EPDM |
1) 取决于型号
气体流路图

SIPROCESS UV600,气体流路图
操作模式
SIPROCESS UV600 的测量原理基于紫外波长范围内的特定分子吸收。具有适用于测量的波长的光线从样品中通过,并测定与所测量组分的浓度成正比的选择性吸收。
尺寸图

SIPROCESS UV600,19" 机架单元,尺寸单位为 mm
电路图
电气连接

SIPROCESS UV600,气体连接和电气连接
SIPROCESS UV600 提供了一个或(可选)两个输入/输出模块标准部件。使用 SIPROCESS UV600 的服务与维护软件,可对信号连接的逻辑功能单独进行组态。
可在输入/输出模块的 12 针插头连接器上的端子片 X3、X4、X5 和 X7 上进行信号连接。供货范围内包括带螺钉接线端子的相应匹配件(插头连接器)。

SIPROCESS UV600,信号连接和插头连接器
针脚分配
SIPROCESS UV600,数字量输入 X3(DI1 至 DI8)和数字量输出 X4(DO1 至 DO4)和 X5(DO5 至 DO8)的针脚分配
数字量输入的特性: