SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。
不锈钢外壳比塑料或者烤漆金属更耐久和美观；工业级别200瓦伺服电机系统，采用与track设备相同设计和程序，使您的工艺更具有实际应用意义；同类产品中的zui大达到50000RPM/S的旋转加速度，确保匀胶和显影的稳定性和高的可重复性。
主要性能指标：
主机机箱采用不锈钢材料(抗化学腐蚀易清洁)
旋涂程序：zui多可存100组程序，每组100步，每个步骤可到0.1秒
转动速度：0-10,000rpm(更高速可选)
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec(空载)
马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm
转速调节精度<1rpm，重复性< 1rpm
工艺时间设定： 0-3,000 sec/step，时间设置精度：0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圆晶)
标准配置两路喷液系统(显影液和去离子水)
产品特性优点：
主机在SC100-SE匀胶机上升级，增加耐腐蚀高分子材料防溅式罩盖
全程序编辑功能，更方便的智能化操作，更好的显影/清洗效果
可实现zui多独立四路喷液用于显影/清洗工作，或进行氮气吹干
控制器可实现程序自动控制喷液或进行手动操作，使用更加方便
显影系统可进行喷雾式、柱流式多种选择，视要求进行配置
提供客户定制化的显影系统配置和工装设计
高可靠性和重复性，高转速精度和更高转速可选
可添加去边胶和背胶清洗功能
