光氧催化设备的处理原理
光氧催化废气处理的原理介绍
目前，越来越多的工业生产厂家利用光氧催化设备对废气进行充分处理，以满足环保要求，因此许多开发商正在研究这种方法净化废气的净化原理，以增加销量。
1、光氧催化利用氧分子产生自由氧，即活性氧，由于自由氧携带的正负电子不平衡，活性氧需要与氧分子结合，从而产生臭氧。臭氧对有机物有很强的氧化作用。工业废气输入净化设备后，净化设备利用高能紫外光束和臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气降解转化为低分子化合物、水和二氧化碳，然后通过排气管排出室外。
2、光氧催化利用细菌的分子键破坏细菌的核酸，然后通过臭氧进行氧化反应，达到净化和杀灭细菌的目的。采用脉冲电晕吸附技术相结合的原理，消除有害气体，将有机物转化为无机物。
3、光氧催化利用高能高臭氧紫外光束照射废气，裂解工业废气的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链在高能紫外光束照射下降解转化为低分子化合物。
4、当能量高于半导体禁带宽度的光子照射半导体时，它们从价带跃迁到导带，半导体的价带电子经历带间跃迁，产生带负电荷的光生电子和带正电荷的光生空穴。光生电子的还原能力和光诱导空穴的强氧化能力导致半导体光催化剂引发的一系列光催化反应。
5、半导体光氧催化羟基自由基反应的机理，即当*等半导体颗粒与水接触时，在半导体表面产生高密度的羟基。
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