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北京华测试验仪器有限公司
超高真空溅射系统主要用于溅射沉积Pd、Ti、Zr、Ta、Al、Cu、W、 NiFe、FeMn,、CoFeS等各种纳米级单层或多层纳米厚度膜(通常低于50nm)。
产品简介
超高真空溅射系统主要用于溅射沉积Pd、Ti、Zr、Ta、Al、Cu、W、 NiFe、FeMn,、CoFeS等各种纳米级单层或多层纳米厚度膜(通常低于50nm)。
设备特点
1.可做超薄薄膜
2.可做多层薄膜(有五个靶源)
主要技术指标
1.极限真空:优于1×10-6 Pa.
2.膜厚: 几nm~100nm
溅射速率:2-4nm/min
薄膜均匀性与重复性:3英寸衬底均匀性优于±2 % ,重复性优于±2%
3.靶材尺寸:2英寸;5个靶位;1RF源,2DC源
4.基片尺寸:3英寸基片与破片
公司主要研发、制造和销售的检测仪器有:电压击穿试验仪、高压漏电起痕试验仪、耐电弧试验仪、铁电材料测试仪器、介电常数及介质损耗测试仪、表面及体积电阻率测试仪、压电材料测试仪器、热电材料测试仪器、绝缘材料电性能检测设备、高温管式炉反射炉气氛炉、高温电性能测试设备、EST静电检测仪器、硅橡胶绝缘子行业测试设备、PCB三防漆电子材料测试、电气薄膜电学检测仪器、高低压电气材料测试设备、电线电缆行业电学测试设备、高分子材料电学测试仪器、热分析仪器、电气安规检测仪器、半导体芯片类测试仪器等,可接定制仪器订单。
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