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N-乙酰-D-*

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更新时间：2018-03-08 15:57:26浏览次数：169次

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上海沪震实业有限公司

经营模式：生产厂家

商铺产品：9991条

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产品简介

N-乙酰-D-*
是一种能够自动诱导由乳糖操纵子调控的目的蛋白质表达的培养基。该培养基有利于大肠杆菌的高水平生长，且无需监测细胞生长状态、无需加入诱导物（如IPTG）即可高水平自动诱导表达目的蛋白。现货供应。咨询！

详细介绍

N-乙酰-D-*
98%

Product Name: N-Acetyl-D-alanine

别名: N-乙酰-D-*
CAS号: 19436-52-3
分子式: C5H9NO3
分子量: 131.13
EINECS编号: 243-066-8
MDL号: MFCD00063133

特定比重:	1.17
贮存:	-20℃保存

HZM120195       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:0.1-1μm,单位:5mg/ml
HZM120196       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120198       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:3-4μm,单位:10mg/ml
HZM120199       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120201       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120204       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120207       SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-SiOH,粒径:2-3μm,单位:10mg/ml
HZM120210       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-NH2,粒径:0.1-1μm,单位:5mg/ml
HZM120212       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-NH2,粒径:2-3μm,单位:10mg/ml
HZM120213       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-NH2,粒径:3-4μm,单位:10mg/ml
HZM120215       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:0.1-1μm,单位:5mg/ml
HZM120216       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120218       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:3-4μm,单位:10mg/ml
HZM120219       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120221       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120224       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120227       SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-SiOH,粒径:2-3μm,单位:10mg/ml
HZP100082       硅酸钾, AR，无水级
HZP112425       氟硅酸钾, AR,99.0%
HZS104575       二氧化硅, GR
HZS104577       二氧化硅, SP
HZS104578       二氧化硅, 99.99% metals basis,粒径:2μm
HZS104583       亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-200型, 99.8%,比表面积（BET）：200m2/g;粒径：7-40nm
HZS104585       纳米二氧化硅, 99.5%,50±5nm
HZS104586       二氧化硅晶体, 99.999%,直径2mm,高度10mm,圆柱体状
HZS104588       亲水性气相纳米二氧化硅Hydr, 99.8%,比表面积（BET）：300m2/g；粒径：7-40nm
HZS104589       疏水气相纳米二氧化硅Hydro, 99.8%,比表面积（BET）：170m2/g；粒径：7-40nm
HZS104591       疏水气相纳米二氧化硅, 99.8%,比表面积（BET）：230m2/g；粒径：7-40nm
HZS104597       纳米二氧化硅, 99.5%,15±5nm
HZS104600       亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-150型, 99.8%,比表面积（BET）：150m2/g；粒径：7-40nm
HZS104650       碳化硅, 99.9% metals basis